연구장비 Equipment
이용가능
담당자
신정철
장비문의
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회전식 코터기 & 평판 가열기 시스템
Spin Coater & Hot Plate
| 기관명 | (재)철원플라즈마산업기술연구원 |
|---|---|
| 모델명 | MS-103-G200 |
| 용도 | 분석 |
| 분류 | 기계가공/시험장비 |
| 연관검색어 | |
| 제조사(국가) | 대한민국 |
| 식별번호 | |
|---|---|
| 장비설명 | Spin Coater는 Photolithography 공정 중 감광액(Photoresist), 또는 기타 용액을 기판에 도포한 후 회전력을 이용하여 고르게 박막을 형성시키기 위한 장비로서 패턴형성 공정에 사용될 수 있으며 디스플레이 연구 개발내의 실험설비 및 시제품 생산에 활용가능하며, HotPlate의 경우 평판 가열시스템으로 감광막, 또는 기타 박막이 형성된 기판의 열처리 설비이다. |
| 원리 및 특성 | 1.Spin Coater 1)Equipment Dimension : 1150(W) * 900(D) * 1650(H) 2)Substrate 크기 : 200 mm X 200 mm 기판 전용 3)Three Photoresist nozzle pump installed 4)Max Spin RPM : 3000RPM 5)Spin speed Control accuracy : < 1,000 rpm ± 1rpm > 1,000 rpm ± 0.1% 6)RPM Acceleration (Max) : ≥10,000 rpm/s 2.Hot Plate 1)Equipment Size : 450(W) * 350(D) * 133(H) 2)내하중 : 약 15kg 3)연속 사용 가능 시간 : 48시간 (250 ℃ 기준) 4)Ceramic ball 150um spacer Installed 5)Temperature control range : 50 ℃~300 ℃, 0.1 ℃ programmable 6)Heater Type : Mica heater 7)Power : 220 V, 30 A, 1Φ, 60 Hz |
| 사용방법 | 기관의뢰 |
| 관련자료 | - |