연구장비 Equipment
이용가능
담당자
신정철
장비문의
0334529881
yjjin@cpri.re.kr
노광기
Mask Aligner
| 기관명 | (재)철원플라즈마산업기술연구원 |
|---|---|
| 모델명 | MA-1200 |
| 용도 | 분석 |
| 분류 | 기계가공/시험장비 |
| 연관검색어 | |
| 제조사(국가) | 대한민국 |
| 식별번호 | NFEC-2013-01-173716 1206-C-0074 |
|---|---|
| 장비설명 | Photoresist 코팅 및 Soft Baking이 완료된 산업용 반도체 Wafer 조명소자용 ITO 기판의 Mask-기판 Align 제어 및 UV 광원 조사장비로 Contact mode와 Seperation mode로 노광 조건 선택 가능하다. |
| 원리 및 특성 | 1. IHG-line 복합파장 Mercury-vapor UV lamp 1)I-line: λ=365.4nm H-line: λ=404.7nm G-line: λ=435.8nm2)9㎛대의 Resolution2. 9 inch mask holder1)기판-마스크 seperation (유격거리: 50㎛) 노광 방식 선택 가능3. Align Confirm monitor & Microscope4. Substrate Holder5. Mask Substrate 흡착용 Pump |
| 사용방법 | 기관의뢰 |
| 관련자료 | - |