연구장비 Equipment
이용가능
담당자
신정철
장비문의
0334529881
yjjin@cpri.re.kr
광학코팅용 마그네트론 스퍼터링 시스템
Magnetron Sputtering System for Optical Coating
| 기관명 | (재)철원플라즈마산업기술연구원 |
|---|---|
| 모델명 | |
| 용도 | 생산 |
| 분류 | 기계가공/시험장비 |
| 연관검색어 | |
| 제조사(국가) | 대한민국 |
| 식별번호 | |
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| 장비설명 | *사용분야 : 스퍼터링에 의한 기능성 광학박막 증착, 렌즈·필터 등 각종 산화물 광학코팅*구성품 주요사양o Vacuum Pumping Unit- Turbo molecular pump & controller- Mechanical rotary vacuum pump with oil mistrap- Vacuum valve, Vacuum lineo Magnetron Sputter Source- Magnetron sputter gun - Rotatable shuttero Substrate Rotation & Cooling Unit- Substrate rotation unit with rotary drive- Z-motion unit for Loading/Unloading the sample- Sustrate holder - Substrate cooling unito Main System Controller & Vacuum Gauge Controller- Main system controller- Baratron gauge & indicator for the operation gauge- Vacuum gauge & controller - Gas supply unito Thickness Rate Controller- two channel sensor & monitor- PID rate control type - Remote control |
| 원리 및 특성 | *장비주요스펙-Dimension : 1,500mm×1,800mm×700mm-Main power : 220 VAC, 3 phase, 60Hz, 50A-Air pressure : 5 - 6 kg/cm3 -Water pressure : 3 - 4 kg/cm3-Sample size : piece to 8inch-Sample No. : 6inch wafer×8ea-Distance : 50mm~100mm-Ultimate pressure : < 1×10 Torr w |
| 사용방법 | 기관의뢰 |
| 관련자료 | - |