연구장비 Equipment
이용가능
담당자
김병연
장비문의
0334529717
yjjin@cpri.re.kr
배치형 마그네트론 스퍼터링 시스템
Batch type magnetron sputtering system
| 기관명 | (재)철원플라즈마산업기술연구원 |
|---|---|
| 모델명 | |
| 용도 | 생산 |
| 분류 | 전기/전자장비 |
| 연관검색어 | |
| 제조사(국가) | 대한민국 |
| 식별번호 | |
|---|---|
| 장비설명 | [시스템 주요내용]o Chamber : Ø1400×H1800 (mm)o 마그네트론 소스 flange : 4 seto 3차원 공자전 지그 시스템o Decorative & functional coatingo Coating material : Metal, oxide, nitride & multiplayer films (TiO2/SiO2, etc) |
| 원리 및 특성 | [상세정보]o Chamber- 크기 : Ø1400×H1800 (mm)- 챔버 벽면 두께 : 40mm 이상- 마그네트론 소스 flange : 4 set, door type- Shielding plate : polished SUS, 2 set- Source shutter assy.- View ports & Accessory ports- Heater : Max 450℃, 15분 이내 가열(시편위치), 인코넬 쉬스 히터o Magnetron Source- Rectangular type - Target size : 1500×150×20 (mm)- ITO target (bonding type, 2set, 3N), Cu target (2set, 4N) 장착- Unbalanced type magnetron source- Uniformity : ± 3% 이내 (H1300mm 균일도)o Power Supply for Magnetron Source- 20KW (1000V, 20A), 4set- DC, unipolar, bipolar pulsed DC 겸용o Plasma Cleaning Source- For plastic components - 내장형 플라즈마 크리닝 소스- 전원 : PE210K(10kW,280AC,40kHz CE)-AE + LM-10K, 7:1 STEP-UP -AE- Plasma polymerization 공정 가능o Vacuum Pumping System- Ultimate pressure: 5×10-6 Torr- Base pressure : 1×10-5 Torr, 10분 이내 (플라스틱 제품 장착시)- Consider the huge out-gassing of plastic components- Cryo pump (3000L/sec) (CTI) : 3set- Rotary pump (edward E2M275) : 1set- Booster pump (edward EH1200) : 1set- Gate Valve 10"(Varian) : 3set - Oil mist trap : 1set |
| 사용방법 | 기관의뢰 |
| 관련자료 | - |