SEM 시편제작용 Sputter
이용가능
담당자 김효규
장비문의 0337475415
khk4529@kitech.re.kr

SEM 시편제작용 Sputter

Sputter machine for SEM specimen preparation

기관명 한국생산기술연구원 원주뿌리기술지원센터
모델명 SC7620
용도 분석
분류 화합물전처리/분석장비
연관검색어
제조사(국가) Quorum Technologies Ltd(영국)

이용금액

사용료 유형 시간당
이용료 5,000원
설치형태 고정
설치장소 한국생산기술연구원 원주뿌리기술지원센터 위치확인

장비설명

식별번호 1904-B-0095
장비설명 "○ “스퍼터링타겟과 챔버가 장착된 본체”와 “진공배기펌프”가 진공호스로 상호간에 연결된 시스템으로 구성
○ 본체
- 파워서플라이, 컨트롤 패널, 스퍼터링 타겟 챔버로 구성된 장치
○ 진공펌프
- 스퍼터 챔버 내부의 대기를 배기시킬 목적으로 장착되는 로터리 타입의 펌프"
원리 및 특성 " ○ 스퍼터 타겟의 종류 : Pd, Au 또는 합금 타겟
○ 스퍼터 타겟의 조절거리 : 약 45mm
○ 스퍼터 타겟의 형상 : 디스크 타입
○ 스퍼터 출력 : DC 800V at 20mA 급
○ 증착속도 : 분당 6nm at 25mA 급
○ 초기 진공도 : 약 10-2mbar
○ 사용가능한 가스 : 아르곤 (Ar) 또는 대기 분위기
○ 진공펌프 : 로터리 타입 (배기량 분당 25리터 이상)"
사용방법 기관의뢰
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